芯东西3月8日报道，最近英特尔芯片制造业务一片向好，状态可谓是春风得意、喜上眉梢，一大原因是，价值近4亿美元的全球第一台High-NA EUV光刻机已经进入了英特尔的工厂。

为此，英特尔分享出史上最大拆箱视频，兴奋地向全世界分享这一重大喜讯。

这并不是英特尔第一次高调“炫富”了。今年1月首台High-NA EUV光刻机的主要组件抵达时，英特尔就晒照并宣告：“这是新年最好的开端。”

为啥这么激动？简而言之，High-NA EUV光刻机对于生产3nm及更先进制程工艺的芯片举足轻重，能够大幅降低制造先进制程芯片的复杂性，并提高产量、降低成本。这种先进设备唯独荷兰光刻机霸主ASML能造出来，而且产量极低。

台积电、三星、英特尔、SK海力士等世界头部逻辑芯片和存储芯片制造商，为了率先并更多拿到ASML最先进的光刻机争得不可开交。

特别是正在大刀阔斧开拓代工业务的英特尔，目标在2025年通过Intel 18A（相当于1.8nm）制程节点重获制程领先权，并成为全球第二大芯片代工商（也就是赶超三星），而率先拿到最先进的芯片光刻技术对其吸引更多客源相当有利。

英特尔对这台机器翘盼已久，早在2018年就下单订购了ASML试点的TWINSCAN EXE:5000光刻机。所以就出现了文章开头提到的，英特尔隆重地接连分享High-NA光刻机TWINSCAN EXE:5200抵达工厂这个里程碑事件的物料，就差敲锣打鼓放鞭炮奔走相告了。

视频显示，一架货机将集装箱从荷兰运输到美国俄勒冈州波特兰，然后由一辆运货卡车运送了该设备的关键部件。

卡车将机器一路运送到英特尔工厂。

在工厂等候已久的工程师们马不停蹄立即开装。

这台机器完全安装还需250名ASML和英特尔工程师大约耗费6个月。安装完毕后，工程师们要对机器进行校准，预计又需要几周甚至几个月的时间。

High-NA EUV光刻机能以8nm分辨率来输出光刻结果，与当前单次曝光分辨率仅到13nm的EUV光刻机相比，这显然是个巨大的进步。

按计划，英特尔会先通过其Intel 18A测试High-NA EUV光刻机的使用，将在2025年部署商用级Twinscan EXE:5200设备用于大批量生产Intel 14A（相当于1.4nm）工艺技术。

ASML此前宣布其下一代High-NA EUV光刻机的价格将是其当前Low-NA EUV光刻机的两倍以上，即大约3.8亿美元。不过确切的价格取决于该设备的实际配置，英特尔CEO帕特·基辛格近期透露该机器的成本为“4亿左右”。

相比之下，现有Low-NA Twinscan NXE EUV系统的售价约为1.8亿美元。

ASML曾在2022年宣布，将在2027~2028年期间每年生产20台High-NA EUV光刻设备。该公司还在今年早些时候透露，其High-NA EUV光刻机累计的订单台数已达到两位数。